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動態(tài)表面張力在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝的應(yīng)用
來源:翁開爾公司 瀏覽 1517 次 發(fā)布時間:2022-03-21
5G、人工智能、智慧交通等消費電子、汽車電子、計算機等應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展,對芯片的性能提出更高的要求,加快了芯片制程升級,從而帶動了半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。半導(dǎo)體晶圓制造工藝包括清洗、曝光、顯影、刻蝕、CMP(化學(xué)機械拋光)、切片等環(huán)節(jié),需要用到各種特殊的液體,如顯影液,清洗液,拋光液等等,這些液體中表面活性劑的濃度對工藝質(zhì)量效果產(chǎn)生深刻的影響。
動態(tài)表面張力在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝的應(yīng)用
半導(dǎo)體晶圓清洗工藝要求
芯片制造技術(shù)的進步驅(qū)動半導(dǎo)體清洗技術(shù)快速發(fā)展。在單晶硅片制造中,光刻,刻蝕,沉積等工藝后均設(shè)置了清洗工藝,清洗工藝在芯片制造進程中占比最大,隨著芯片技術(shù)節(jié)點不斷提升,對晶圓表面污染物的控制要求也越來越高。
為了滿足這些高的清潔度要求,在其中部分需要化學(xué)清洗的工序,清洗劑的濃度一定要保持在適當?shù)臐舛确秶畠?nèi),成功的清洗工藝有兩個條件:
1.為了達成所需的清潔效果,清洗劑的濃度需要在規(guī)定范圍內(nèi)。
2.在最后的漂洗過程后,須避免表面活性劑在硅晶圓上殘留,殘留的表面活性劑對后面的處理工藝會造成不利影響。
清洗工藝的好壞直接影響下一道工序,甚至影響器件的成品率和可靠性,然而在清洗工藝過程中,工人往往疏于監(jiān)控清洗和漂洗工序中表面活性劑的濃度,表面活性劑經(jīng)常過量,而為了消除表面活性劑過量帶來的不利影響,又往往要費時費力地增加漂洗工序階段的成本。

動態(tài)表面張力在半導(dǎo)體晶圓切片工藝的應(yīng)用
半導(dǎo)體晶圓切片和CMP工藝要求
晶圓切片工藝是在“后端”裝配工藝中的第一步。該工藝將晶圓分成單個的芯片,用于隨后的芯片接合(die bonding)、引線接合(wire bonding)和測試工序。在芯片的分割期間,金剛石刀片碾碎基礎(chǔ)材料(晶圓),同時去掉所產(chǎn)生的碎片。在切割晶圓時某一種特殊的處理液會用于冷卻工作時的刀片,這種處理液中會加入某種表面活性劑,以此來潤滑刀片并移除切割過程中產(chǎn)生的碎片,改善切割品質(zhì)、延長刀片壽命。
在半導(dǎo)體晶圓CMP工藝中,利用機械力作用于晶圓片表面,同時研磨液中的化學(xué)物質(zhì)與晶圓片表面材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來增加其研磨速率。
拋光液是CMP技術(shù)中的決定性因素之一,其性能直接影響被加工工件表面的質(zhì)量以及拋光加工的效率。在CMP拋光液中,一般使用水基拋光液作為加工介質(zhì),以去離子水作為溶劑,加入磨料(如SiO2、ZrO2納米粒子等)、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑以及氧化劑等組分,每個組分都具有相應(yīng)的功能,對化學(xué)機械拋光過程起到不同的作用。磨料通過拋光液輸送到拋光墊表面后,在拋光墊和被加工表面之間同時受到壓力作用以及相對運動的帶動,通過對被加工表面形成極細微的切削、劃擦以及滾壓作用,對表面材料進行微量去除。磨料的形狀、硬度、顆粒大小對化學(xué)機械拋光都具有重要的影響。分散劑是一種兼具親水性與親油性的界面活性劑,能夠均勻分散一些不溶于液體的固體顆粒,對于拋光液而言,分散劑能夠減少拋光液中磨料顆粒的團聚,提高拋光液中磨料的分散穩(wěn)定性。